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簡介：KJ-T1200CVD是一種管式爐，配備60mm直徑氧化鋁管、真空泵和四通道質量流量計+一個浮子流量計氣體流動系統

產品介紹：PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜

產品介紹：卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置

產品介紹：KJ-CVD是一種分體式管式爐，配備60mm直徑的石英管、真空泵和四通道質量流量計氣體流動系統

產品介紹：該產品是由射頻電源、氣體質子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成，適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實現TEOS...

產品介紹：KJ-T1200CVD是一種管式爐，配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質量流量計氣體流動系統

產品描述：KJ-T1200PECVD是一種PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）的管式爐系統，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空...

產品介紹：等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜技術生長的一種系的制備技術

產品介紹：該雙爐體CVD系統為定制款，適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗

產品特點：1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單

簡單介紹：KJ-T1600CVD是一種管式爐，具有80mm直徑的氧化鋁管和三通道質量流量計氣體流動系統

產品介紹：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統、質量流量計氣路系統、等離子電源系統組成

產品介紹：KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式爐由KJ-T1200管式爐+真空系統+供氣系統組成，溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三...

產品介紹：KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成

KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統，由KJ-T1200單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成

產品介紹：KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生長爐由KJ-1200T管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成，溫度可以達到1200度,可以是單...

產品介紹：KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成，溫度可以達到1200度，極限真...

產品介紹：液壓鐘罩氣氛爐采用爐體和智能控制一體化設計，整個爐體美觀、大方

產品用途：PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜

產品介紹：KJ-T1200大口徑CVD管式爐是一種具有60mm直徑石英管，真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統的可拆分管式爐